Počet záznamů: 1
LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
SYS 0336628 LBL 01974^^^^^2200457^^^450 005 20240103192832.5 014 $a 000270410800063 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.tsf.2009.05.022 $2 DOI 100 $a 20100225d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CH 200 1-
$a LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257662 $1 011 $a 0040-6090 $e 1879-2731 $1 200 1 $a Thin Solid Films $v Roč. 517, č. 24 (2009), s. 6829-6832 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a amorphous hydrogenated silicon 610 0-
$a atomic force microscopy 610 0-
$a plasma-enhanced chemical vapour deposition, 610 0-
$a nucleation 610 0-
$a Raman scattering 610 0-
$a lithium fluoride 700 -1
$3 cav_un_auth*0100533 $a Stuchlík $b Jiří $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100351 $a Ledinský $b Martin $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0045682 $a Honda $b Shinya $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100186 $a Drbohlav $b Ivo $i Strukturní analýza $j Structural Analysis $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100379 $a Mates $b Tomáš $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0247345 $a Hruška $b Karel $i Spintronika a nanoelektronika $j Spintronics and Nanoelectronics $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100534 $a Stuchlíková $b The-Ha $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100295 $a Kočka $b Jan $i Tenké vrstvy a nanostruktury $j Thin Films and Nanostructures $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1