Počet záznamů: 1
Measurement of total energy flux density at a substrate during TiO.sub.x./sub. thin film deposition by using a plasma jet system
SYS 0334316 LBL 02179^^^^^2200385^^^450 005 20240103192602.1 014 $a 000261824400008 $2 WOS 017 $a 10.1016/j.vacuum.2008.05.014 $2 DOI 100 $a 20100225d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a GB 200 1-
$a Measurement of total energy flux density at a substrate during TiOx thin film deposition by using a plasma jet system 215 $a 7 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257687 $1 011 $a 0042-207X $e 1879-2715 $1 200 1 $a Vacuum $v Roč. 83, č. 4 (2009), s. 738-744 $1 210 $c Elsevier 610 0-
$a hollow cathode 610 0-
$a plasma jet 610 0-
$a sputtering 610 0-
$a pulsed DC 610 0-
$a energy influx on substrate 610 0-
$a TiO2 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098250 $a Virostko $b Petr $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 856 $u http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW4-4SJ2WRT-2&_user=625012&_rdoc=1&_fmt=&_orig=search&_sort=d&view=c&_acct=C000031722&_vers
Počet záznamů: 1