Počet záznamů: 1
CO2 Laser Photosensitized Decomposition of Diethylsilane for Deposition of SiXC1-X Coatings
SYS 0164773 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20240103174937.5 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a CO2 Laser Photosensitized Decomposition of Diethylsilane for Deposition of SiXC1-X Coatings 463 -1
$1 200 1 $a ROMOPTO '94. Conference in Optics. Proceedings Series SPIE $v s. 121-123 $h 2461 $1 702 1 $a Vlad $b V. I. $4 340 $1 010 $a 0-8194-1813-7 $1 210 $a Bellingham $c SPIE $d 1994 700 -1
$3 cav_un_auth*0103276 $a Jakoubková $b Marie $p UCHP-M $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102745 $a Bastl $b Zdeněk $p UFCH-W $w Low-dimensional Systems $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102727 $a Šubrt $b Jan $p UACH-T $4 070 $T Ústav anorganické chemie AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103331 $a Pokorná $b Dana $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103253 $a Fajgar $b Radek $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103332 $a Pola $b Josef $p UCHP-M $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1