Počet záznamů: 1
Investigation of RF and DC plasma jet system during deposition of highly oriented ZnO thin films
SYS 0134425 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20200403114439.3 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a Investigation of RF and DC plasma jet system during deposition of highly oriented ZnO thin films 215 $a 5 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v 174-175, - (2003), s. 627-631 $1 210 $c Elsevier 610 1-
$a plasma jet 610 1-
$a ZnO thin films 610 1-
$a Langmuir probe 700 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0038434 $a Adámek $b P. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100479 $a Ptáček $b Pavel $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100551 $a Šíchová $b Hana $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100549 $a Šícha $b Miloš $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100259 $a Jastrabík $b Lubomír $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1