Počet záznamů: 1
Litografická maska
- 1.Kolařík, V., Krátký, S., Chlumská, J., Meluzín, P., Matějka, M., Burda, D., Ondříšková, M., Lalinský, O., Horodyský, P. Litografická maska. Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i., 2021. Funkční vzorek APL-2021-03.
Počet záznamů: 1