Počet záznamů: 1  

Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties

  1. 1.
    Krýsová, H., Neumann-Spallart, M., Tarábková, H., Janda, P., Kavan, L., Krýsa, J. Atomic layer deposited films of Al2O3 on fluorine-doped tin oxide electrodes: stability and barrier properties. Beilstein Journal of Nanotechnology. 2021, 12(JAN 2021), 24-34. ISSN 2190-4286. E-ISSN 2190-4286. Dostupné z: doi: 10.3762/bjnano.12.2.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.