Počet záznamů: 1
Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system
- 1.Virostko, P., Hubička, Z., Čada, M., Tichý, M. Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system. Journal of Physics D-Applied Physics. 2010, 43(12), 1-7. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463. Dostupné z: doi: 10.1088/0022-3727/43/12/124019.
Počet záznamů: 1