Počet záznamů: 1  

Litografická maska

  1. 1.
    KOLAŘÍK, V., KRÁTKÝ, S., CHLUMSKÁ, J., MELUZÍN, P., MATĚJKA, M., BURDA, D., ONDŘÍŠKOVÁ, M., LALINSKÝ, O., HORODYSKÝ, P. Litografická maska. Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i., 2021. Funkční vzorek APL-2021-03.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.