Počet záznamů: 1
Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
- 1.OLEJNÍČEK, J., ŠMÍD, J., HUBIČKA, Z., ADÁMEK, P., ČADA, M., KMENT, Š. Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu. Patentový spis 306980. 13. 9. 2017. Dostupné z: https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Počet záznamů: 1