Počet záznamů: 1
Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges
- 1.STRAŇÁK, V., WULFF, H., BOGDANOWICZ, R., DRACHE, S., HUBIČKA, Z., ČADA, M., TICHÝ, M., HIPPLER, R. Growth and properties of Ti-Cu films with respect to plasma parameters in dual-magnetron sputtering discharges. European Physical Journal D. 2011, 64(2-3), 427-435. ISSN 1434-6060. E-ISSN 1434-6079. Dostupné z: doi: 10.1140/epjd/e2011-20393-7
Počet záznamů: 1