Počet záznamů: 1  

Quantitative depth profiling of K-doped fullerene films using XPS and SIMS

    1.
    OSWALD, S., JANDA, Pavel, DUNSCH, L. Quantitative depth profiling of K-doped fullerene films using XPS and SIMS. Microchimica Acta. 2003, 141(1-2), 79-85. ISSN 0026-3672. E-ISSN 1436-5073.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.

Přijmout všeNastaveníOdmítnout vše