Počet záznamů: 1
A study of plasma parameters in hollow cathode plasma jet in pulse regime
- 1.0357985 - FZÚ 2011 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Kudrna, P. - Klusoň, J. - Leshkov, S. - Chichina, M. - Picková, I. - Hubička, Zdeněk - Tichý, M.
A study of plasma parameters in hollow cathode plasma jet in pulse regime.
Contributions to Plasma Physics. Roč. 50, č. 9 (2010), s. 886-891. ISSN 0863-1042. E-ISSN 1521-3986
Grant CEP: GA ČR GA202/09/0800
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: thin-films * system * deposition * RF * nitride
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.006, rok: 2010
The pulsed DC hollow cathode discharge has been studied in the low pressure plasma jet sputtering system by means of cylindrical Langmuir probe. Measurements have been performed in pure Ar with the flow rate of 30 sccm.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0196140
Počet záznamů: 1