Design of Setup for Laser Induced Plasma Etching

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0617414
Název	Design of Setup for Laser Induced Plasma Etching
Tvůrce(i)	Šilhan, Lukáš (UPT-D) Novotný, Jan (UPT-D)_{ORCID, SAI, RID} Plichta, Tomáš (UPT-D)_{ORCID, SAI} Ježek, Jan (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Vaculík, Ondřej (UPT-D) Šerý, Mojmír (UPT-D)_{RID, SAI}
Korespondující/senior	Šilhan, Lukáš - Korespondující autor
Zdroj.dok.	2024 37th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2024. s. 44-45. - New York : IEEE, 2024
Edice	International Vacuum Nanoelectronics Conference
Konference	International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC) /37./, 15.07.2024, Brno - 19.07.2024
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	TN02000020 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	vacuum chamber * plasma etching * femtosecond laser * micromachining * three-dimensional displays * lithography * electronics industry * surface emitting lasers * ignition
Spolupracující instituce	Vysoké učení technické v Brně, Fakulta strojního inženýrství (Česká republika)
URL	https://ieeexplore.ieee.org/document/10652276
Trvalý link	https://hdl.handle.net/11104/0364348

Počet záznamů: 1