Počet záznamů: 1  

Investigating the thin film growth of [Ni(Hvanox).sub.2./sub.] by microscopic and spectroscopic techniques

  1. 1.
    SYSNO ASEP0618377
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevInvestigating the thin film growth of [Ni(Hvanox)2] by microscopic and spectroscopic techniques
    Tvůrce(i) Sapre, Atharva Umesh (FZU-D) ORCID
    Vlček, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    de Prado, Esther (FZU-D) ORCID, RID
    Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
    Klementová, Mariana (FZU-D) RID, ORCID
    Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Svora, Petr (FZU-D) ORCID
    Cuza, E. (IE)
    Morgan, G.G. (IE)
    Honolka, Jan (FZU-D) RID, ORCID
    Kühne, Irina A. (FZU-D) ORCID
    Celkový počet autorů11
    Číslo článku2083
    Zdroj.dok.Nanoscale Advances. - : Royal Society of Chemistry - ISSN 2516-0230
    Roč. 7, Feb (2025)
    Poč.str.9 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.GB - Velká Británie
    Klíč. slovathin film ; AFM ; SEM ; TEM ; XRD ; 3D electron diffraction
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGA23-05878S GA ČR - Grantová agentura ČR
    EH22_008/0004596 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    LM2023051 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS001426865500001
    EID SCOPUS85219074946
    DOI https://doi.org/10.1039/d4na01021c
    AnotaceWe have investigated [Ni(Hvanox)2] (H2vanox = o-vanillinoxime), a square-planar Ni(II) complex, for the preparation of thin films using organic molecule evaporation. Low pressure experiments to prepare thin films were conducted at temperatures between 120–150 °C and thin films of increasing thicknesses [Ni(Hvanox)2] (16–336 nm) have been prepared on various substrates and been analyzed by microscopic and spectroscopic methods. Scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM) and transmission electron microscopy (TEM) were used to reveal a rough surface morphology which exhibits a dense arrangement of elongated, rod and needle-like nanocrystals with random orientations. It also enabled us to follow the growth of the thin films by increasing thickness revealing the formation of a seeding layer. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS and 3D ED), TEM and X-ray diffraction (XRD) were utilized to confirm the atomic structure and the elemental composition of the thin films.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2026
    Elektronická adresahttps://hdl.handle.net/11104/0365240
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.