Počet záznamů: 1
Litografická maska s nanometrickým rozlišením
- 1.0584699 - ÚPT 2024 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Kolařík, Vladimír - Meluzín, Petr - Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Kopal, Jaroslav - Burda, Daniel
Litografická maska s nanometrickým rozlišením.
[Lithographic mask with nanometer accuracy.]
Interní kód: APL-2024-02 ; 2024
Technické parametry: Kalibrační a metrologická pomůcka pro dosažení přesných výsledků při měření v optickém světelném spektru. Funkční vzorek je navržen jako mikroskopické sklíčko o rozměru cca. 76 mm x 26 mm, na kterém je umístěn motiv (resp. motivy) o celkovém rozměru cca. 46.7 mm x 18.5 mm.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Petr Meluzín, meluzin@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration * optical * devices * resolution
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: https://hdl.handle.net/11104/0352542
Počet záznamů: 1