KOLAŘÍK, Vladimír, MELUZÍN, Petr, KRÁTKÝ, Stanislav, CHLUMSKÁ, Jana, KOPAL, Jaroslav, BURDA, Daniel. Litografická maska s nanometrickým rozlišením. Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i., 2024. Funkční vzorek APL-2024-02.