Počet záznamů: 1  

SMV-2023-05: DI2023

  1. SYS0579070
    LBL
      
    01000a^^22220027750^450
    005
      
    20250324150339.6
    017
      
    $2 DOI
    100
      
    $a 20231206d m y slo 03 ba
    101
      
    $a cze $d cze $d eng
    102
      
    $a CZ
    200
    1-
    $a SMV-2023-05: DI2023
    210
      
    $a Brno $c DELONG INSTRUMENTS a.s. $d 2023
    215
      
    $a 4 s. $c P
    541
      
    $a SMV-2023-05: DI2023 $z eng
    610
      
    $a relief structure
    610
      
    $a e-beam lithography
    610
      
    $a silicon etching
    610
      
    $a microlithography
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0258195 $a Matějka $b Milan $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0287343 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0311793 $a Meluzín $b Petr $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0459316 $a Košelová $b Zuzana $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0301528 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101553 $a Horáček $b Miroslav $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0101578 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0299810 $a Knápek $b Alexandr $p UPT-D $i D2: Elektronové a plasmové technologie $j D2: Electron and plasma technologies $w New Technologies $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1  

Metadata v repozitáři ASEP jsou licencována pod licencí CC0.

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.