Počet záznamů: 1
Technologie výroby nelineárních fázových masek
- 1.
SYSNO 0575662 Název Technologie výroby nelineárních fázových masek Překlad názvu The manufacturing process of apodized phase masks Tvůrce(i) Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Mikel, Břetislav (UPT-D) RID, SAI
Helán, R. (CZ)
Urban, F. (CZ)Vyd. údaje 2023 Poddruh Ověřená technologie Int.kód APL-2023-03 Vlastník výsledku Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. Technické parametry Technologie pro výrobu nelineárních fázových masek pro vlnovou délku dopadajícího světla 248 nm pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání do materiálu fused silica. Přesnost zápisu periody mřížky je 0,1 nm, přesnost naladění hloubky mřížky je ±5 nm. Ekonomické parametry Ověřená technologie realizovaná při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz. Druh dok. Poloprovoz, ověřená technol., odrůda, plemeno Grant FW01010379 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova apodized phase mask * e-beam lithography * reactive ion etching Trvalý link https://hdl.handle.net/11104/0345419
Počet záznamů: 1