Počet záznamů: 1
Nanosphere lithography-based fabrication of spherical nanostructures and verification of their hexagonal symmetries by image analysis
- 1.
SYSNO ASEP 0567910 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Nanosphere lithography-based fabrication of spherical nanostructures and verification of their hexagonal symmetries by image analysis Tvůrce(i) Domonkos, M. (CZ)
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAICelkový počet autorů 2 Číslo článku 2642 Zdroj.dok. Symmetry-Basel. - : MDPI
Roč. 14, č. 12 (2022)Poč.str. 16 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova nanosphere lithography ; self-assembly ; hexagonal symmetry ; plasma etching ; image analysis ; defect detection Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Obor OECD Nano-materials (production and properties) CEP LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000903184900001 EID SCOPUS 85144876013 DOI 10.3390/sym14122642 Anotace This paper reviews technological challenges in NSL mask preparation, its modification, and quality control. Spin coating with various process parameters (substrate wettability, solution properties, spin coating operating parameters) are discussed to create a uniform monolayer from monodisperse polystyrene (PS) nanospheres with a diameter of 0.2–1.5 um. The prepared highly ordered nanopatterned arrays (from circular, triangular, pillar-shaped structures) are applicable in many different fields (plasmonics, photonics, sensorics, biomimetic surfaces, life science, etc.).
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023 Elektronická adresa https://hdl.handle.net/11104/0339173
Počet záznamů: 1