Počet záznamů: 1
Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami
- 1.
SYSNO ASEP 0567281 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Tenké vrstvy pro fotovoltaiku nanášené plasmochemickými metodami Překlad názvu Thin films for photovoltaics deposited by plasma chemistry methods
Tvůrce(i) Fejfar, Antonín (FZU-D) RID, ORCID, SAI Celkový počet autorů 1 Zdroj.dok. Zpravodaj ČVS, 30, 1. - Praha : Česká Vakuová Společnost, 2022 / Drbohlav J. - ISSN 1213-2705 Rozsah stran s. 2-6 Poč.str. 5 s. Forma vydání Online - E Akce LŠVT - Letní škola vakuové techniky 2022 Datum konání 30.05.2022 - 02.06.2022 Místo konání Bítov Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. cze - čeština Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova thin films ; deposition ; plasma chemistry ; photovoltaics Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy EF16_026/0008382 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Tenké vrstvy jsou klíčovou komponentou prakticky všech moderních fotovoltaických článků pro využití sluneční energie. Články využívají tenké vrstvy pro dosažení optimálního záchytu světla, pro rozdělení a sběr fotogenerovaných nábojů i pro pasivaci rozhraní či přímo jako vrstvy absorbující fotony slunečního svitu. Každoročně jsou tak nanášeny vrstvy o celkové ploše řádu mnoha stovek kilometrů čtverečních, a to především s využitím plazmochemických technologií. Překlad anotace Thin films are key components for practically all of contemporary photovoltaic cells for solar energy utilization. Cells use thin films for optimizing light trapping, for selecting and collection of photogenerated charges and interface passivation or as absorber layers. Each year several hundreds of square kilometers of thin films are deposited mainly by plasma chemistry methods. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023
Počet záznamů: 1