Počet záznamů: 1
Plasma Jet Sputtering as an Efficient Method for the Deposition of Nickel and Cobalt Mixed Oxides on Stainless-Steel Meshes: Application to VOC Oxidation
SYS 0566973 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240402213548.9 014 $a 85146713582 $2 SCOPUS 014 $a 000914535100001 $2 WOS 017 $a 10.3390/catal13010079 $2 DOI 100 $a 20230116d m y slo 03 ba 101 $a eng $d eng 102 $a CH 200 1-
$a Plasma Jet Sputtering as an Efficient Method for the Deposition of Nickel and Cobalt Mixed Oxides on Stainless-Steel Meshes: Application to VOC Oxidation 215 $a 20 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0445483 $1 011 $e 2073-4344 $1 200 1 $a Catalysts $v Roč. 13, č. 1 (2023) $1 205 $a ONLINE $1 210 $c MDPI 610 $a plasma jet sputtering 610 $a thin films 610 $a nickel–cobalt oxides 700 -1
$3 cav_un_auth*0108020 $a Jirátová $b Květa $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $z K $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0443122 $a Naiko $b Iryna $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0443123 $a Ostapenko $b Alina $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0108027 $a Balabánová $b Jana $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287685 $a Koštejn $b Martin $p UCHP-M $i Oddělení laserové chemie $j Department of Laser Chemistry $w Department of Laser Chemistry $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0086504 $a Maixner $b J. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0431621 $a Babii $b T. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0233848 $a Topka $b Pavel $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0103358 $a Soukup $b Karel $p UCHP-M $i Oddělení katalýzy a reakčního inženýrství $j Department of Catalysis and Reaction Engineering $w Department of Catalysis and Reaction Engineering $4 070 $T Ústav chemických procesů AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015334 $a Kovanda $b F. $y CZ $4 070 856 $u https://www.mdpi.com/2073-4344/13/1/79 $9 RIV
Počet záznamů: 1