Počet záznamů: 1  

Optical anisotropy of glancing angle deposited thin films on nano-patterned substrates

  1. 1.
    SYSNO ASEP0566321
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevOptical anisotropy of glancing angle deposited thin films on nano-patterned substrates
    Tvůrce(i) Grineviciute, L. (LT)
    Moein, T. (AU)
    Han, M. (AU)
    Ng, S.H. (AU)
    Anand, V. (AU)
    Katkus, T. (AU)
    Ryu, M. (JP)
    Morikawa, J. (JP)
    Tobin, M.J. (AU)
    Vongsvivut, J. (AU)
    Tolenis, Tomas (FZU-D) ORCID
    Juodkazis, S. (AU)
    Celkový počet autorů12
    Zdroj.dok.Optical Materials Express. - : Optical Society of America - ISSN 2159-3930
    Roč. 12, č. 3 (2022), s. 1281-1290
    Poč.str.10 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovabirefringence ; laser
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000764503700007
    EID SCOPUS85125651178
    DOI10.1364/OME.451669
    AnotaceThis study has demonstrated that 3D columnar micro-films/coatings can be deposited over pre-patterned surfaces with sub-micrometer periodic patterns. Four-angle polarisation analysis of thin (0.4 − 1∼µm) Si and SiO2 films, evaporated via glancing angle deposition (GLAD) at 70° to the normal, was carried out in reflection mode using synchrotron infrared microspectroscopy at the Australian Synchrotron. The angular dependence of absorbance followed A(θ) ∝ cos 2 θ, confirmed for Si substrates patterned by electron beam lithography and plasma etching, which were used to make checkerboard patterns of Λ = 0.4∼µm period on Si. Retardance control by birefringence of a patterned SiO2 substrate coated by columnar SiO2 is promising for UV-visible applications due to the use of the same material to endow polarisation control.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2023
    Elektronická adresahttps://hdl.handle.net/11104/0337688
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.