Počet záznamů: 1
Nanostructuring of PMMA, GaAs, SiC and Si samples by focused XUV laser beam
SYS 0538597 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103225255.1 014 $a 85073908975 $2 SCOPUS 014 $a 000489750600006 $2 WOS 017 70
$a 10.1117/12.2521444 $2 DOI 100 $a 20210126d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a US 200 1-
$a Nanostructuring of PMMA, GaAs, SiC and Si samples by focused XUV laser beam 215 $a 6 s. $c E 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0535654 $1 010 $a 978-151062736-9 $1 011 $a 0277-786X $1 200 1 $a Optics Damage and Materials Processing by EUV/X-ray Radiation VII $v Roč. 11035 (2019) $1 210 $a Bellingham $c SPIE $d 2019 $1 225 $a Proceedings of SPIE $v 11035 $1 702 1 $a Juha $b L. $4 340 $1 702 1 $4 340 $a Bajt $b S. $1 702 1 $4 340 $a Guizard $b S. 608 $a Conference Paper 610 $a Ablation 610 $a Diffraction pattern 610 $a Nanopatterning 610 $a Nanostructuring 610 $a XUV laser 700 -1
$3 cav_un_auth*0218268 $a Frolov $b Oleksandr $p UFP-V $i Impulsní plazmové systémy $j Pulse Plasma Systems $k IPS $l PPS $y UA $z K $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101386 $a Koláček $b Karel $p UFP-V $i Impulsní plazmové systémy $j Pulse Plasma Systems $k IPS $l PPS $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101422 $a Schmidt $b Jiří $p UFP-V $i Impulsní plazmové systémy $j Pulse Plasma Systems $k IPS $l PPS $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0107637 $a Štraus $b Jaroslav $p UFP-V $i Impulsní plazmové systémy $j Pulse Plasma Systems $k IPS $l PPS $y CZ $T Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015474 $a Choukourov $b A. $y CZ $q Charles University 856 $u https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/11035/110350K/Nanostructuring-of-PMMA-GaAs-SiC-and-Si-samples-by-focused/10.1117/12.2521444.short?SSO=1 $9 RIV
Počet záznamů: 1