Počet záznamů: 1
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
- 1.Mrázek, Jan
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P.
[Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon.]
2019. Vlastník: Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 30.09.2019. Číslo vzoru: 33261
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
http://hdl.handle.net/11104/0307887
Počet záznamů: 1