Počet záznamů: 1
Surface imaging with UHV SLEEM and SEM LEEM
- 1.
SYSNO ASEP 0522221 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Zařazení RIV Není vybrán druh dokumentu Název Surface imaging with UHV SLEEM and SEM LEEM Tvůrce(i) Mikmeková, Šárka (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Jánský, P. (CZ)
Kolařík, V. (CZ)
Müllerová, Ilona (UPT-D) RID, SAI, ORCIDCelkový počet autorů 4 Zdroj.dok. Microscopy and Microanalysis. - : Cambridge University Press - ISSN 1431-9276
Roč. 25, S2 (2019), s. 444-445Poč.str. 2 s. Forma vydání Tištěná - P Akce Microscopy & Microanalysis 2019 Meeting Datum konání 04.08.2019 - 08.08.2019 Místo konání Portland Země US - Spojené státy americké Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova surface imaging ; UHV SLEEM ; SEM LEEM Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Obor OECD Materials engineering CEP TE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 DOI 10.1017/S1431927619002952 Anotace From fundamental studies in the materials science up to diagnostics of industrial materials a reliable method enabling characterization of surface properties with high sensitivity and high spatial resolution is urgently needed. Low energy electron microscopy method has proven itself eminently sensitive not only to the topography of the sample surface but also to its chemical composition, crystalline structure and electronic configuration.
Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2020
Počet záznamů: 1