Počet záznamů: 1
The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge
- 1.
SYSNO ASEP 0519372 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název The effect of magnetic field strength and geometry on the deposition rate and ionized flux fraction in the HiPIMS discharge Tvůrce(i) Hajihoseini, H. (IS)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Ünaldi, S. (FR)
Raadu, M.A. (SE)
Brenning, N. (FR)
Gudmundsson, J.T. (IS)
Lundin, D. (FR)Celkový počet autorů 8 Zdroj.dok. Plasma. - : MDPI
Roč. 2, č. 2 (2019), s. 201-221Poč.str. 21 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova ionized physical vapor deposition ; magnetron sputtering ; high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) ; ionized flux fraction ; deposition rate Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA19-00579S GA ČR - Grantová agentura ČR Způsob publikování Open access Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 DOI 10.3390/plasma2020015 Anotace We explored the effect of magnetic field strength B and geometry (degree of balancing) on the deposition rate and ionized flux fraction Fflux in dc magnetron sputtering (dcMS) and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) when depositing titanium. The HiPIMS discharge was run in two different operating modes. The first one we refer to as “fixed voltage mode” where the cathode voltage was kept fixed at 625 V while the pulse repetition frequency was varied to achieve the desired time average power (300 W). The second mode we refer to as “fixed peak current mode” and was carried out by adjusting the cathode voltage to maintain a fixed peak discharge current and by varying the frequency to achieve the same average power. Our results show that the dcMS deposition rate was weakly sensitive to variations in the magnetic field while the deposition rate during HiPIMS operated in fixed voltage mode changed from 30% to 90% of the dcMS deposition rate as B decreased. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2020 Elektronická adresa http://hdl.handle.net/11104/0304364
Počet záznamů: 1