Počet záznamů: 1
Silicon carbide detectors for diagnostics of laser-produced plasmas
- 1.
SYSNO ASEP 0517693 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Silicon carbide detectors for diagnostics of laser-produced plasmas Tvůrce(i) Torrisi, Alfio (UJF-V) RID, ORCID
Wachulak, P. W. (PL)
Fiedorowicz, H. (PL)
Torrisi, L. (IT)Celkový počet autorů 4 Číslo článku 110320W Zdroj.dok. Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11032. - Bellingham : SPIE, 2019 - ISSN 0277-786X - ISBN 9781510627307 Poč.str. 7 s. Forma vydání Tištěná - P Akce EUV and X-Ray Optics: Synergy Between Laboratory and Space VI 2019 Datum konání 03.04.2019 - 04.04.2019 Místo konání Praha Země CZ - Česká republika Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova ion sources ; SiC detectors ; laser produced plasmas Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP GA19-02804S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 UT WOS 000535354700025 EID SCOPUS 85068331013 DOI 10.1117/12.2527311 Anotace Recently developed silicon carbide (SiC) detectors have been employed to study pulsed laser plasmas produced by irradiation of a double-stream gas puff target with nanosecond laser pulses. The plasma emitted by a gas-puff target source in the soft X-ray (SXR, λ = 0.1 - 10 nm) and extreme ultraviolet (EUV, λ = 10 - 120 nm) ranges was monitored with silicon carbide (SiC) detectors and compared with a commercial, calibrated silicon (Si) photodiode (AXUV-HS1). Different filters have been used to select the emission in different wavelength ranges from the broad-band emission of the plasma. This work shows the applicability of SiC detectors to measure the SXR and EUV ns pulses from the plasma, useful for monitoring and optimizing the gas-puff laser-plasma sources developed at IOE-MUT, in Warsaw (Poland). Some aspects relative to the plasma stability as well as characterization of the plasma source (i.e. the overall evaluation of the signal and the time trace profile) will be presented and discussed. Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2020
Počet záznamů: 1