Počet záznamů: 1  

Silicon carbide detectors for diagnostics of laser-produced plasmas

  1. 1.
    SYSNO ASEP0517693
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevSilicon carbide detectors for diagnostics of laser-produced plasmas
    Tvůrce(i) Torrisi, Alfio (UJF-V) RID, ORCID
    Wachulak, P. W. (PL)
    Fiedorowicz, H. (PL)
    Torrisi, L. (IT)
    Celkový počet autorů4
    Číslo článku110320W
    Zdroj.dok.Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, 11032. - Bellingham : SPIE, 2019 - ISSN 0277-786X - ISBN 9781510627307
    Poč.str.7 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    AkceEUV and X-Ray Optics: Synergy Between Laboratory and Space VI 2019
    Datum konání03.04.2019 - 04.04.2019
    Místo konáníPraha
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovaion sources ; SiC detectors ; laser produced plasmas
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPGA19-02804S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005
    UT WOS000535354700025
    EID SCOPUS85068331013
    DOI10.1117/12.2527311
    AnotaceRecently developed silicon carbide (SiC) detectors have been employed to study pulsed laser plasmas produced by irradiation of a double-stream gas puff target with nanosecond laser pulses. The plasma emitted by a gas-puff target source in the soft X-ray (SXR, λ = 0.1 - 10 nm) and extreme ultraviolet (EUV, λ = 10 - 120 nm) ranges was monitored with silicon carbide (SiC) detectors and compared with a commercial, calibrated silicon (Si) photodiode (AXUV-HS1). Different filters have been used to select the emission in different wavelength ranges from the broad-band emission of the plasma. This work shows the applicability of SiC detectors to measure the SXR and EUV ns pulses from the plasma, useful for monitoring and optimizing the gas-puff laser-plasma sources developed at IOE-MUT, in Warsaw (Poland). Some aspects relative to the plasma stability as well as characterization of the plasma source (i.e. the overall evaluation of the signal and the time trace profile) will be presented and discussed.
    PracovištěÚstav jaderné fyziky
    KontaktMarkéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228
    Rok sběru2020
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.