Počet záznamů: 1
Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod
- 1.
SYSNO ASEP 0494044 Druh ASEP Z - Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda/plemeno Zařazení RIV Z - Poloprovoz, ověřená technol., odrůda, plemeno, léčebný postup Poddruh RIV Ověřená technologie Název Vysokorychlostní depozice homogenních oxidových vrstev prostřednictvím vícetryskového systému žhavených dutých katod Překlad názvu High rate deposition of homogeneous oxide films by multi-nozzle system of hot hollow cathodes Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAIRok vydání 2018 Int.kód TF01000084-2018V003 Technické parametry Ohledně výsledku byla dne 28.2.2018 uzavřena licenční smlouva mezi Fyzikálním ústavem a společností IQ Structures, s.r.o. (IČ: 24279501) Ekonomické parametry Ve srovnání s reaktivním DC magnetronovým naprašováním umožňuje tato technologie několikanásobné zvýšení depoziční rychlosti oxidových vrstev. Tento nárůst může v závislosti na naprašovaném materiálu dosáhnout až desetinásobku při současném zachování energetické náročnosti depozičního procesu. Technologie byla testována v průmyslové aparatuře společnosti Emerson & Renwick na vrstvách oxidu titaničitého (TiO2) a oproti DC-MS bylo dosaženo trojnásobné depoziční rychlosti. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68378271 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Číselná identifikace TF01000084-2018V003 Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova hollow cathode ; plazma nozzle ; deposition ; thin films Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Unikátní vysokorychlostní naprašovací systém, využívající čtyři rovnoběžná depoziční děla s dutými katodami. Systém je navržen tak, aby po namontování do vakuové aparatury a připojení k příslušným periferiím (zdroj napětí, pracovní plyny, chladící okruh, …) umožňoval vysokorychlostní depozici vybraných materiálů zejména oxidových vrstev. Technická dokumentace obsahuje kompletní technické výkresy všech komponent vícetryskového systému včetně 3D modelů zkompletovaných částí. Překlad anotace Unique high-rate deposition system utilizing four parallel deposition guns with hollow cathodes. The system is designed to allow high-rate deposition of selected materials, especially oxide layers, after installation into the vacuum apparatus and connection to the relevant periphery (voltage source, working gases, cooling circuit, ...). The technical documentation contains complete technical drawings of all components of the multi-nozzle system, including 3D models of completed parts. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1