Počet záznamů: 1
Interferometrický odměřovací systém pro systém hlubokého reaktivního leptání
- 1.0482540 - ÚPT 2018 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír
Interferometrický odměřovací systém pro systém hlubokého reaktivního leptání.
[Interferometric measuring system for deep reactive ion etching system.]
Interní kód: APL-2017-08 ; 2017
Technické parametry: Systém slouží k přesnému měření hloubky leptu v systému hlubokého reaktivního leptání. Je vybaven náhledovým kamerovým systémem umožňující kontrolu procesu výroby mikrostruktur. K odměřování hloubky leptu je použit He-Ne laser o vlnové délce 543 nm. Pro detekci signálu je použita metoda homodynní detekce. Konstrukce je složena z tříosých kinematických držáků optických komponent (kolimátoru, koutových odražečů, děliče svazku a detekční jednotky). Nastavení opto-mechanických komponent je provedeno kinematickými závěsy s precizním nastavením. Pro minimalizaci teplotní roztažnosti je celá sestava vyrobena z duralové slitiny.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Tadeáš Maňka, manka@isibrno.cz
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: DRIE * laser interferometry * Michelson interferometer
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Zařízení je určeno pro přesné měření hloubky leptu v systému hlubokého reaktivního leptání. Měření lze provádět v reálném čase, čímž umožňuje zastavit leptací proces po dosažení určité hloubky leptu a tím zpřesnit výrobu mikro a nanostruktur.
The device is designed to accurately measure the depth of etching in a deep reactive etching system. Measurements can be made in real time, allowing you to stop the etching process after reaching a certain depth of etching, thereby improving the production of micro and nanostructures.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0277967
Počet záznamů: 1