Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Jan - Straňák, Vítězslav
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.
[A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method.]
2017. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení patentu: 31.05.2017. Číslo patentu: 306799
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Web výsledku:
https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
http://hdl.handle.net/11104/0273025