Počet záznamů: 1
WO.sub.3./sub. thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering
- 1.
SYSNO 0474060 Název WO3 thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering Tvůrce(i) Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Brunclíková, Michaela (FZU-D) RID
Kment, Š. (CZ)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kmentová, N. (CZ)
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zlámal, M. (CZ)
Krýsa, J. (CZ)Zdroj.dok. Chemical Engineering Journal. Roč. 318, Jun (2017), s. 281-288. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR GAP108/12/2104 GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova WO3 * thin films * water splitting * pulsed magnetron sputtering * sedimentation * photo-electro-chemistry Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0271156
Počet záznamů: 1