Počet záznamů: 1
WO.sub.3./sub. thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering
SYS 0474060 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103214005.4 014 $a 85016318309 $2 SCOPUS 014 $a 000399851600033 $2 WOS 017 70
$a 10.1016/j.cej.2016.09.083 $2 DOI 100 $a 20170420d m y slo 03 ba 101 $a eng 102 $a NL 200 1-
$a WO3 thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering 215 $a 8 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0252412 $1 011 $a 1385-8947 $e 1873-3212 $1 200 1 $a Chemical Engineering Journal $v Roč. 318, Jun (2017), s. 281-288 $1 210 $c Elsevier 608 $a Article 610 $a WO3 610 $a thin films 610 $a water splitting 610 $a pulsed magnetron sputtering 610 $a sedimentation 610 $a photo-electro-chemistry 700 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0295325 $a Brunclíková $b Michaela $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $y CZ $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0212628 $a Kment $b Š. $y CZ $q Univerzita Palackého v Olomouci 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0328676 $a Kmentová $b N. $y CZ $q Univerzita Palackého v Olomouci 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245114 $a Zlámal $b M. $y CZ $q Vysoka skola chemicko-technologicka v Praze 701 -1
$3 cav_un_auth*0015740 $a Krýsa $b J. $y CZ $q Vysoka skola chemicko-technologicka v Praze
Počet záznamů: 1