Počet záznamů: 1
WO.sub.3./sub. thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering
- 1.Olejníček, J., Brunclíková, M., Kment, Š., Hubička, Z., Kmentová, N., Kšírová, P., Čada, M., Zlámal, M., Krýsa, J. WO3 thin films prepared by sedimentation and plasma sputtering. Chemical Engineering Journal. 2017, 318(Jun), 281-288. ISSN 1385-8947. E-ISSN 1873-3212. Dostupné z: doi: 10.1016/j.cej.2016.09.083
Počet záznamů: 1