Preparation of Thin Silicon Layers Highly Doped with Manganese by Reactive Pulsed Laser Deposition

0449017 - ÚCHP 2016 DE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Koštejn, Martin - Dřínek, Vladislav - Fajgar, Radek
Preparation of Thin Silicon Layers Highly Doped with Manganese by Reactive Pulsed Laser Deposition.
Abstracts and Program. -: -, 2015, s. 89. ISBN N.
[International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors ICANS 26 /26./. Aachen (DE), 13.09.2015-18.09.2015]
Grant CEP: GA ČR GA13-25747S
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: silicon layers * laser deposition * manganese
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

ne
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0250600