Počet záznamů: 1
Deposition of carbon nanostructures by surfatron generated discharge
- 1.
SYSNO ASEP 0440056 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve SCOPUS Název Deposition of carbon nanostructures by surfatron generated discharge Tvůrce(i) Davydova, Marina (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Acta Polytechnica. - : České vysoké učení technické - ISSN 1210-2709
Roč. 54, č. 6 (2014), s. 389-393Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova carbon nanostructures ; microwave plasma ; PECVD ; surfatron Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR GP14-06054P GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 EID SCOPUS 84920277225 DOI 10.14311/AP.2014.54.0389 Anotace Various carbon nanostructures were deposited by surface wave discharge from an Ar/CH4/CO2 gas mixture. The type and the form of the carbon nanostructure were controlled by the gas mixture and the gas inlet. The nanostructures that formed were investigated by scanning electron microscopy and by Raman measurements. The influence of the geometrical combination of the gas inlets (via surfatrons or via the gas shower system) into the chamber is found to be a crucial deposition parameter for the controllable growth of desired carbon nanostructures. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2015
Počet záznamů: 1