Počet záznamů: 1  

Lattice-mismatched epitaxial growth on porous III-V substrates

  1. 1.
    SYSNO ASEP0437411
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevLattice-mismatched epitaxial growth on porous III-V substrates
    Tvůrce(i) Grym, Jan (URE-Y)
    Gladkov, Petar (URE-Y)
    Vaniš, Jan (URE-Y) RID
    Hulicius, Eduard (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Pacherová, Oliva (FZU-D) RID, ORCID
    Dimitrakopulos, G.P. (GR)
    Bazioti, C. (GR)
    Komninou, Ph. (GR)
    Celkový počet autorů9
    Zdroj.dok.ECS Transactions, 58. - Pennington : Electrochemical Society, 2013 - ISSN 1938-5862
    Rozsah strans. 53-60
    Poč.str.8 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Akce224th ECS Meeting
    Datum konání27.10.2013-28.10.2013
    Místo konáníSan Francisco
    ZeměUS - Spojené státy americké
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovaEpitaxial growth ; Gallium alloys ; Metallorganic vapor phase epitaxy
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Vědní obor RIV – spolupráceFyzikální ústav - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Institucionální podporaURE-Y - RVO:67985882 ; FZU-D - RVO:68378271
    EID SCOPUS84904875360
    DOI10.1149/05808.0053ecst
    AnotaceWe report on the electrochemical preparation of GaAs porous substrates, their heat treatment in As rich environment and their overgrowth by metalorganic vapor phase epitaxy (MOVPE). The goal is to demonstrate that porous substrates are capable of accommodating strain at the interface with lattice mismatched In(x)Ga(1-x)As layers
    PracovištěÚstav fotoniky a elektroniky
    KontaktPetr Vacek, vacek@ufe.cz, Tel.: 266 773 413, 266 773 438, 266 773 488
    Rok sběru2015
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.