Počet záznamů: 1
Monte-Carlo simulation of proximity effect in e-beam lithography
SYS 0429792 LBL 02619^^^^^2200373^^^450 005 20240103204423.8 014 $a 000352070900129 $2 WOS 100 $a 20140721d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a CZ 200 1-
$a Monte-Carlo simulation of proximity effect in e-beam lithography 215 $a 4 s. $c P 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0397859 $1 010 $a 978-80-87294-44-4 $1 200 1 $a NANOCON 2013. 5th International Conference Proceedings $v S. 723-726 $1 210 $a Ostrava $c TANGER Ltd $d 2013 610 0-
$a Monte–Carlo 610 0-
$a proximity effect simulation 610 0-
$a e–beam lithography 700 -1
$3 cav_un_auth*0223246 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $a Urbánek $b Michal $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101578 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $a Kolařík $b Vladimír $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0287343 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $a Krátký $b Stanislav $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0258195 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $a Matějka $b Milan $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101553 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $w New Technologies $4 070 $a Horáček $b Miroslav $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0301528 $i D2: Speciální technologie $j D2: New Technologies $4 070 $a Chlumská $b Jana $p UPT-D $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1