Počet záznamů: 1
The Influence of Various Deposition Techniques on the Photoelectrochemical Properties of the Titanium Dioxide Thin Fil
- 1.0390196 - ÚCHP 2013 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Morozová, Magdalena - Klusoň, Petr - Dzik, P. - Veselý, M. - Baudyš, M. - Krýsa, J. - Šolcová, Olga
The Influence of Various Deposition Techniques on the Photoelectrochemical Properties of the Titanium Dioxide Thin Fil.
Journal of Sol-Gel Science and Technology. Roč. 65, č. 3 (2013), s. 452-458. ISSN 0928-0707. E-ISSN 1573-4846
Grant CEP: GA TA ČR TA01020804
Grant ostatní: GA ČR(CZ) GP104/09/P165
Institucionální podpora: RVO:67985858
Klíčová slova: titanium dioxide * photoelectrochemical properties * deposition techniques
Kód oboru RIV: CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství
Impakt faktor: 1.547, rok: 2013
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0219712Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup SKMBT_C22013040212570.pdf 6 3.6 MB Autorský preprint povolen
Počet záznamů: 1