Počet záznamů: 1
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely
- 1.
SYSNO 0371285 Název Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely Překlad názvu Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCIDVyd. údaje 2011 Poddruh Funkční vzorek Int.kód FS1/FZÚ/2011 Technické parametry Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A Ekonomické parametry Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0204834
Počet záznamů: 1