Počet záznamů: 1

Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely

SYSNO ASEP	0371285
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely
Překlad názvu	Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Dejneka, Alexandr (FZU-D)_{RID, ORCID}
Rok vydání	2011
Int.kód	FS1/FZÚ/2011
Lokalizace výsledku	Sekce optika, Oddělení nízkoteplotního plazmatu, FZÚ AV ČR, v. v. i.
Technické parametry	Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Ekonomické parametry	Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Název vlastníka	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
IČ vlastníka	68378271
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Využ. jiným subjektem	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	sputtering ; optical thin films ; plasma ; deposition ; magnetron ; hollow cathode
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
CEP	TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
Anotace	V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
Překlad anotace	Hybrid plasmatic system was developed in frame of grant TACR. The system contains two magnetrons and the hollow cathode system for HIPIMS+MF reactive sputtering of optical thin films. The system is suitable for research purposes.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2012

Počet záznamů: 1