Počet záznamů: 1
New Trend in Applied Plasma Science and Technology
- 1.
SYSNO ASEP 0364212 Zařazení RIV Záznam nebyl označen do RIV Název New Trend in Applied Plasma Science and Technology Tvůrce(i) Kobayashi, A. (ed.)
Miyasaka, T. (ed.)
Krása, J. (ed.)Rok vydání 2010 ISBN 978-0-7354-0812-8 Edice AIP Conference Proceedings Č. sv. edice 1282 Země vyd. US - Spojené státy americké
Počet záznamů: 1