Počet záznamů: 1  

The effect of annealing of Eu:Y2O3/alumina nanostructures thin film

  1. 1.
    SYSNO ASEP0340027
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevThe effect of annealing of Eu:Y2O3/alumina nanostructures thin film
    Tvůrce(i) Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Garapon, C. (FR)
    Martinet, C. (FR)
    Guy, S. (FR)
    Klementová, Mariana (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.E-MRS 2008 Spring Meeting, Symposium B. - Warrendale, PA : MRS, 2008 - ISBN N
    BP125
    Poč.str.1 s.
    AkceE-MRS 2008 Spring Meeting
    Datum konání26.05.2008-30.05.2008
    Místo konáníStrasbourg
    ZeměFR - Francie
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovapulsed laser deposition ; waveguides ; laser annealing ; rapid thermal annealing
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceWe studied the Eu3+ doped Y2O3 crystalline nanostructures embedded in amorphous alumina waveguides. These samples were prepared by alternating pulsed laser deposition at substrate temperature above 500°C. We proposed to improve on structural properties of the nanocomposite films via a post deposition laser annealing using KrF and XeCl excimer lasers and Rapid Thermal Annealing (RTA) of amorphous nanocomposites elaborated at low substrate temperature. The lasers were chosen due to high absorption of Y2O3 matrix, Eu3+ ions and high transparency for amorphous alumina film. Laser annealing was carried out at various laser power densities, number of laser pulses and oxygen pressures. The RTA was performed by means of pulsed halogen lamp in vacuum and oxygen ambient. The corresponding variations in the structural, fluorescence and optical properties of the Eu:Y2O3/alumina films were measured using XRD, TEM, time resolved fluorescence, spectrophotonic and ellipsometric measurements.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2010
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.