Počet záznamů: 1
Microscopic study of the H.sub.2./sub.O vapor treatment of the silicon grain boundaries
SYS 0312592 LBL 01829^^^^^2200421^^^450 005 20240103190439.4 014 $a 000256500400054 $2 WOS 017 7-
$a 10.1016/j.jnoncrysol.2007.09.107 $2 DOI 100 $a 20081003d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a Microscopic study of the H2O vapor treatment of the silicon grain boundaries 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257058 $1 011 $a 0022-3093 $e 1873-4812 $1 200 1 $a Journal of Non-Crystalline Solids $v Roč. 354, č. 19-25 (2008), s. 2310-2313 $1 210 $c Elsevier 541 1-
$a Mikroskopická studie ošetřování hranic zrn v křemíku vodní parou $z cze 610 0-
$a polycrystalline silicon films 610 0-
$a H2O vapor treatment 610 0-
$a potential 610 0-
$a crystalline disorder 610 0-
$a stress 610 0-
$a defects 610 0-
$a passivation 700 -1
$3 cav_un_auth*0045682 $a Honda $b Shinya $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100379 $a Mates $b Tomáš $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100487 $a Rezek $b Bohuslav $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100196 $a Fejfar $b Antonín $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100295 $a Kočka $b Jan $p FZU-D $w Thin Films and Nanostructures $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1