0312092 - ÚCHP 2009 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Pola, Josef - Ouchi, A. - Bakardjieva, Snejana - Vorlíček, Vladimír - Maryško, Miroslav - Šubrt, Jan - Bastl, Zdeněk
Laser Photochemical Etching of Silica: Nanodomains of Crystalline Chaoite and Silica in Amorphous C/Si/O/N Phase.
[Laserově fotochemické leptání siliky: nanodomény krystalických chaoitu a siliky v amorfní C/Si/O/N fázi.]
Journal of Physical Chemistry C. Roč. 112, č. 34 (2008), s. 13281-13286. ISSN 1932-7447. E-ISSN 1932-7455
Grant CEP: GA AV ČR IAA400720619
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z40720504; CEZ:AV0Z40320502; CEZ:AV0Z10100521; CEZ:AV0Z40400503
Klíčová slova: laser deposition * silica etching * nanocomposite
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 3.396, rok: 2008
DOI: https://doi.org/10.1021/jp803738k

Silica etching by laser-photolytic products of pyridine allows deposition of amorphous carbon-Si/C/O/N nanocomposite containing crystalline nano-regions of rare chaoite or silica.

Leptání siliky laserově fotolytickými produkty pyridinu dovoluje deposici amorfní fáze uhlík-Si/C/O/N nanokompositu obsahující krystalické domény vzácného chaoitu nebo siliky.

Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0163246