Počet záznamů: 1
Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiO.sub.x./sub. thin films
- 1.0309887 - FZÚ 2009 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Adámek, Petr - Kment, Štěpán - Tichý, M. - Jastrabík, Lubomír
Electrical probe diagnostics of the hollow cathode plasma jet system for deposition of TiOx thin films.
[Sondová diagnostika plazmového tryskového systému s efektem duté katody pro depozice tenkých vrstev TiOx.]
Contributions to Plasma Physics. Roč. 48, 5-7 (2008), s. 527-533. ISSN 0863-1042. E-ISSN 1521-3986
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA AV ČR KJB100100707; GA MŠMT(CZ) 1M06002; GA AV ČR KAN400720701; GA ČR GA202/06/0776
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522; CEZ:AV0Z10100521
Klíčová slova: hollow cathode * plasma jet * probe diagnostics * deposition of thin films
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 1.250, rok: 2008
Measurements of positive ion flux to a negatively biased substrate for deposition of TiOx thin films by the hollow cathode plasma jet system are presented. Different methods of obtaining the bias of substrate and measuring the resulting ion flux were used for different bias frequencies. Time-resolved Langmuir probe technique was simultaneously used to observe the basic plasma properties during the ion flux measurements.
Jsou prezentovány výsledky měření iontového toku na substrát držený na záporném předpětí při depozici tenkých vrstev TiOx pomocí plazmového tryskového systému s efektem duté katody. Pro různé frekvence předpětí substrátu jsou implementovány a vzájemně porovnány různé metody určení iontového toku. Časově rozlišená měření pomocí Langmuirovy sondy byla zároveň použita pro měření základních parametrů plazmatu.
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0161906
Počet záznamů: 1