Počet záznamů: 1
Hardness and elastic modulus of amorphous and nanocrystalline SiC and Si films
- 1.
SYSNO ASEP 0307730 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Hardness and elastic modulus of amorphous and nanocrystalline SiC and Si films Překlad názvu Tvrdost a modul pružnosti amorfních a nanokrystalických filmů SiC a Si Tvůrce(i) Kulykovskyy, Valeriy (FZU-D) RID
Vorlíček, Vladimír (FZU-D) RID
Boháč, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Stranyánek, Martin (FZU-D)
Čtvrtlík, Radim (FZU-D) RID, ORCID
Kurdyumov, A. (UA)
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972
Roč. 202, - (2008), s. 1738-1745Poč.str. 8 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova sputtering ; hardness ; nanocrystalline SiC films ; nanocomposites ; amorphous Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP OC 097 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy OC 095 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) DOI https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.07.029 Anotace Hydrogen-free amorphous and nanocrystalline films were prepared by magnetron sputtering of the SiC or Si targets. Mechanical properties (hardness, elastic modulus, intrinsic stress) and film structures were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. It was found that both hardness and elastic modulus of all amorphous a-SiC films prepared at different substrate temperatures and biases are always lower than those for bulk α-SiC single crystal while the hardness of partially crystalline SiC films is higher and the elastic modulus lower than those for α-SiC one. In contrast, both hardness and elastic modulus of all amorphous Si films are always lower than those for nanocrystalline Si films which show approximately the same value as the Si single crystal. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2008
Počet záznamů: 1