Počet záznamů: 1
Doubly versus singly positively charged oxygen ions back-scattered from a silicon surface under dynamic O.sub.2./sub..sup.+./sup. bombardment
- 1.
SYSNO 0304285 Název Doubly versus singly positively charged oxygen ions back-scattered from a silicon surface under dynamic O2+ bombardment Tvůrce(i) Franzreb, K. (US)
Williams, P.
Lörinčík, Jan (UFCH-W)
Šroubek, Zdeněk (URE-Y)Zdroj.dok. Applied Surface Science. 203-204, - (2003), s. 39-42. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant CHE-0091328, XE - země EU CEZ AV0Z2067918 - URE-Y Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova ionisation * sputtering Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0003150
Počet záznamů: 1