Počet záznamů: 1
Doubly versus singly positively charged oxygen ions back-scattered from a silicon surface under dynamic O.sub.2./sub..sup.+./sup. bombardment
SYS 0304285 LBL 02444nam^^2200349^^^450 005 20240103181004.7 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a Doubly versus singly positively charged oxygen ions back-scattered from a silicon surface under dynamic O2+ bombardment 215 $a 4 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256173 $1 011 $a 0169-4332 $e 1873-5584 $1 200 1 $a Applied Surface Science $v 203-204, - (2003), s. 39-42 $1 210 $c Elsevier 610 1-
$a ionisation 610 1-
$a sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0015756 $a Franzreb $b K. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0200302 $a Williams $b P. $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0099903 $a Lörinčík $b Jan $p UFCH-W $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0101747 $a Šroubek $b Zdeněk $p URE-Y $4 070 $T Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1