Počet záznamů: 1  

Phase elements by means of lithographic system emploing a spatial light modulator

  1. 1.
    SYSNO ASEP0304044
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevPhase elements by means of lithographic system emploing a spatial light modulator
    Tvůrce(i) Aubrecht, Ivo (URE-Y)
    Miler, Miroslav (URE-Y)
    Pala, Jan (URE-Y)
    Rok vydání2002
    ISBN80-86114-46-5
    Zdroj.dok.Photonics Prague 2002. Technical Programme & Abstract Booklet / Tománek P.
    s. 54
    Poč.str.1 s.
    AkcePhotonics Prague'2002 /4./
    Druh akceK - Konference
    Datum konání26.05.2002-29.05.2002
    Místo konáníPrague
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaspatial light modulators ; photolitography ; photoresists
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    CEPGA202/01/0428 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z2067918 - URE-Y
    AnotaceThe system employs a spatial light modulator (SML), between a pair of crossed polarizers, and an electronic shutter. Transmission of the SLM with the polarizers is controlled by graphic software that defines which pixels are fully transparent and which are fully opaque. While a particular binary graphics is on the SLM the electronic shutter allows light to pass for a certain time. The graphics is imaged, by an objective, onto a photoresist plate. A mercury lamp is used as a light source. The graphics changes after each exposition and the whole sequence of images determines the resultant surface-relief modulation.
    PracovištěÚstav fotoniky a elektroniky
    KontaktPetr Vacek, vacek@ufe.cz, Tel.: 266 773 413, 266 773 438, 266 773 488
    Rok sběru2003

Počet záznamů: 1  

Metadata v repozitáři ASEP jsou licencována pod licencí CC0.

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.