Počet záznamů: 1
Characterization of silicon oxide thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition from octamethylcyclotetrasiloxane/oxygen feeds
- 1.
SYSNO 0185122 Název Characterization of silicon oxide thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition from octamethylcyclotetrasiloxane/oxygen feeds Tvůrce(i) Zajíčková, L. (CZ)
Janča, J. (CZ)
Peřina, Vratislav (UJF-V) RIDZdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 338, - (1999), s. 49-59. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Jazyk dok. eng Země vyd. GB Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0081539
Počet záznamů: 1